On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2013

On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching

K. N. Nguyen
  • Fonction : Auteur
Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes
Philippe Basset
Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes
CV
F. Marty
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 844609
Institut d'électronique fondamentale
Yamin Leprince-Wang
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832546
Tarik Bourouina
Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes
CV

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
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Citer

K. N. Nguyen, Philippe Basset, F. Marty, Yamin Leprince-Wang, Tarik Bourouina. On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching. Journal of Applied Physics, 2013, 113 (19), ⟨10.1063/1.4805024⟩. ⟨hal-01721058⟩

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