On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching - HAL Accéder directement au contenu
Article dans une revue Journal of Applied Physics Année : 2013

On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching

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K. N. Nguyen, Philippe Basset, F. Marty, Yamin Leprince-Wang, Tarik Bourouina. On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching. Journal of Applied Physics, 2013, 113 (19), ⟨10.1063/1.4805024⟩. ⟨hal-01721058⟩
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Dernière date de mise à jour le 26/06/2024
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