Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Chlorine Chemistry - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Chlorine Chemistry

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Optique / photonique

Christophe Levallois  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01711092

Soumis le : vendredi 16 février 2018-17:20:33

Dernière modification le : mardi 17 septembre 2024-10:16:17

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Dates et versions

hal-01711092 , version 1 (16-02-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01711092 , version 1

Citer

Jean-Pierre Landesman, Daniel T Cassidy, Erwine Pargon, Christophe Levallois, Merwan Mokhtari, et al.. Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Chlorine Chemistry. 17th International Conference on Defects-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors (DRIP XVII), Oct 2017, Valladolid, Spain. ⟨hal-01711092⟩

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