Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Chlorine Chemistry - Archive ouverte HAL
Poster De Conférence Année : 2017

Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Chlorine Chemistry

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci] Optique / photonique Physique [physics]

Christophe Levallois  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01710320

Soumis le : jeudi 15 février 2018-18:15:05

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:07:51

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01710320 , version 1 (15-02-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01710320 , version 1

Citer

Jean-Pierre Landesman, Daniel T Cassidy, Erwine Pargon, Christophe Levallois, Merwan Mokhtari, et al.. Mechanical Stress in InP Structures Etched in an Inductively Coupled Plasma Reactor with Chlorine Chemistry. 18th Canadian Semiconductor Science and Technology Conference (CSSTC 2017), Aug 2017, Waterloo, Canada. ⟨hal-01710320⟩

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