Reused of Slurry By Membrane Processes for Microelectronic Industry - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Water today Année : 2017

Reused of Slurry By Membrane Processes for Microelectronic Industry

Fabrice Testa
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Mécanique, Modélisation et Procédés Propres
Clémence Coetsier
Laboratoire de Génie Chimique
Emilie Carretier
Laboratoire de Mécanique, Modélisation et Procédés Propres
M. Ennahali
  • Fonction : Auteur
Benoit Laborie
C. Serafino
  • Fonction : Auteur
F. Bulgarelli
  • Fonction : Auteur
Philippe Moulin
Laboratoire de Mécanique, Modélisation et Procédés Propres

Domaines

Génie des procédés

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https://hal.science/hal-01656407

Soumis le : mardi 5 décembre 2017-16:06:37

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:22:03

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Dates et versions

hal-01656407 , version 1 (05-12-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01656407 , version 1

Citer

Fabrice Testa, Clémence Coetsier, Emilie Carretier, M. Ennahali, Benoit Laborie, et al.. Reused of Slurry By Membrane Processes for Microelectronic Industry. Water today, 2017, 123, pp.311-320. ⟨hal-01656407⟩

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