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Poster De Conférence Année : 2017

Application of the cryogenic etching for mold fabrication in Si substrates

N. Belouchrani
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01647675 , version 1 (24-11-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01647675 , version 1

Citer

Dmitri Yarekha, Mathieu Halbwax, N. Belouchrani, Vincent Magnin, Joseph Harari, et al.. Application of the cryogenic etching for mold fabrication in Si substrates . Journée Nationales sur les Technologies Emergentes en micronanofabrication (JNTE 2017), Nov 2017, Orléan, France. 2017. ⟨hal-01647675⟩
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