Reliability nano-characterization of thin SiO2 and HfSixOy/SiO2 gate stacks - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2007

Reliability nano-characterization of thin SiO2 and HfSixOy/SiO2 gate stacks

E. Efthymiou
  • Fonction : Auteur
S. N. Volkos
  • Fonction : Auteur
B. Hamilton
  • Fonction : Auteur
J. F. Zhang
  • Fonction : Auteur
H. J. Uppal
  • Fonction : Auteur
A. R. Peaker
  • Fonction : Auteur

Résumé

no abstract

Dates et versions

hal-01633141 , version 1 (11-11-2017)

Identifiants

Citer

E. Efthymiou, S. Bernardini, S. N. Volkos, B. Hamilton, J. F. Zhang, et al.. Reliability nano-characterization of thin SiO2 and HfSixOy/SiO2 gate stacks. Microelectronic Engineering, 2007, 84 (9-10), pp.2290-2293. ⟨10.1016/j.mee.2007.04.060⟩. ⟨hal-01633141⟩
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