Chemical and optical profiling of ultra thin high-k dielectrics on silicon
Résumé
no abstract
Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2008
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https://hal.science/hal-01633138
Soumis le : samedi 11 novembre 2017-15:50:45
Dernière modification le : mercredi 6 novembre 2019-18:26:11
Citer
S. Bernardini, M. Mackenzie, O. Buiu, P. Bailey, T. C. Q. Noakes, et al.. Chemical and optical profiling of ultra thin high-k dielectrics on silicon. Thin Solid Films, 2008, 517 (1), pp.459-461. ⟨10.1016/j.tsf.2008.08.048⟩. ⟨hal-01633138⟩
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