The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue IEEE Transactions on Nuclear Science Année : 2011

The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations

Domaines

Electronique
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01632651 , version 1 (10-11-2017)

Identifiants

Citer

Y. Gonzalez-Velo, J. Boch, N. J.-H. Roche, C. Deneau, J.-R. Vaillé, et al.. The Use of Electron-Beam Lithography for Localized Micro-Beam Irradiations. IEEE Transactions on Nuclear Science, 2011, 58 (3), pp.1104 - 1111. ⟨10.1109/TNS.2011.2128885⟩. ⟨hal-01632651⟩
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