Gravure par contact du silicium à l’aide d’électrodes en or nanoporeux - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2017

Gravure par contact du silicium à l’aide d’électrodes en or nanoporeux

Encarnacion Torralba-Penalver
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est
Mathieu Halbwax
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
E. Mpogui
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est
Taha El Assimi
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est
Joseph Harari
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Jean-Pierre Vilcot
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
Sylvain Le Gall
Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
CV
Raphaël Lachaume
Laboratoire Génie électrique et électronique de Paris
CV
Christine Cachet-Vivier
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est
Stéphane Bastide
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Sylvain LE GALL  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01580526

Soumis le : vendredi 1 septembre 2017-16:24:11

Dernière modification le : vendredi 26 avril 2024-03:29:40

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01580526 , version 1 (01-09-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01580526 , version 1

Citer

Encarnacion Torralba-Penalver, Mathieu Halbwax, E. Mpogui, Taha El Assimi, Joseph Harari, et al.. Gravure par contact du silicium à l’aide d’électrodes en or nanoporeux. Semiconduteur et oxyde poreux (SCOPE 2017), Jun 2017, Lille, France. ⟨hal-01580526⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

UPMC CNRS UNIV-VALENCIENNES IEMN UPEC ICMPE CENTRALESUPELEC GEEPS PHEMADIC INC-CNRS UNIV-PARIS-SACLAY UNIV-LILLE SORBONNE-UNIVERSITE SU-SCIENCES ANR GS-ENGINEERING GS-PHYSIQUE INSTITUT-SCIENCES-LUMIERE
153 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More