Asymmetric diffusion as a key mechanism in Ni/Al energetic multilayer processing: A first principles study
Résumé
no abstract
Georges Landa : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01481813
Soumis le : jeudi 2 mars 2017-23:40:08
Dernière modification le : lundi 20 novembre 2023-11:44:17