Introducing densification mechanisms into the modelling of HfO2 atomic layer deposition - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2012

Introducing densification mechanisms into the modelling of HfO2 atomic layer deposition

C. Mastail
  • Fonction : Auteur
C. Lanthony
  • Fonction : Auteur
S. Olivier
  • Fonction : Auteur
J. -M. Ducere
  • Fonction : Auteur
A. Esteve
M. Djafari Rouhani
  • Fonction : Auteur
N. Richard
  • Fonction : Auteur
A. Dkhissi
  • Fonction : Auteur

Résumé

no abstract

Dates et versions

hal-01481807 , version 1 (02-03-2017)

Identifiants

Citer

C. Mastail, C. Lanthony, S. Olivier, J. -M. Ducere, Georges Landa, et al.. Introducing densification mechanisms into the modelling of HfO2 atomic layer deposition. Thin Solid Films, 2012, 520 (14), pp.4559-4563. ⟨10.1016/j.tsf.2011.10.125⟩. ⟨hal-01481807⟩
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