Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Ouvrages Année : 2016

Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications

Maxime Bichotte
  • Fonction : Directeur scientifique
  • PersonId : 990980
HEF
Thomas Pouit
  • Fonction : Directeur scientifique
HEF
Soum-Glaude Audrey
Alex Le Gal
  • Fonction : Directeur scientifique
Glenat Hervé
  • Fonction : Directeur scientifique
Itskhokine David
  • Fonction : Directeur scientifique
Laurent Dubost
  • Fonction : Directeur scientifique
HEF
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01384611 , version 1 (20-10-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01384611 , version 1

Citer

Maxime Bichotte, Thomas Pouit, Soum-Glaude Audrey, Alex Le Gal, Glenat Hervé, et al. (Dir.). Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications. 2016. ⟨hal-01384611⟩
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