Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications - Archive ouverte HAL
Ouvrages Année : 2016

Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications

Maxime Bichotte
  • Fonction : Directeur scientifique
  • PersonId : 990980
HEF
Thomas Pouit
  • Fonction : Directeur scientifique
HEF
Soum-Glaude Audrey
Procédés, Matériaux et Energie Solaire
CV
Alex Le Gal
Procédés, Matériaux et Energie Solaire
Hervé Glénat
  • Fonction : Directeur scientifique
Procédés, Matériaux et Energie Solaire
Itskhokine David
  • Fonction : Directeur scientifique
Solar Euromed
Laurent Dubost
  • Fonction : Directeur scientifique
HEF

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Maxime Bichotte  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01384611

Soumis le : jeudi 20 octobre 2016-11:22:30

Dernière modification le : vendredi 18 octobre 2024-13:44:03

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01384611 , version 1 (20-10-2016)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01384611 , version 1

Citer

Maxime Bichotte, Thomas Pouit, Soum-Glaude Audrey, Alex Le Gal, Hervé Glénat, et al. (Dir.). Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications. 2016. ⟨hal-01384611⟩

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