Communication Dans Un Congrès
Année : 2015
Maxime Bichotte : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01384523
Soumis le : jeudi 20 octobre 2016-10:21:51
Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-18:16:37
Citer
Maxime Bichotte, Thomas Pouit, Soum-Glaude Audrey, Alex Le Gal, Hervé Glénat, et al.. Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications. CIP 2015 (Colloquium on Plasma Processes), Jun 2015, St Etienne, France. ⟨10.1063/1.4949058⟩. ⟨hal-01384523⟩
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