Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications

Maxime Bichotte
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 990980
HEF
Thomas Pouit
  • Fonction : Auteur
HEF
Soum-Glaude Audrey
Procédés, Matériaux et Energie Solaire
CV
Alex Le Gal
Procédés, Matériaux et Energie Solaire
Glenat Hervé
  • Fonction : Auteur
Procédés, Matériaux et Energie Solaire
Laurent Dubost
  • Fonction : Auteur
HEF

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Maxime Bichotte  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01384517

Soumis le : jeudi 20 octobre 2016-10:17:25

Dernière modification le : mercredi 30 octobre 2024-18:16:37

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Dates et versions

hal-01384517 , version 1 (20-10-2016)

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Citer

Maxime Bichotte, Thomas Pouit, Soum-Glaude Audrey, Alex Le Gal, Glenat Hervé, et al.. Arc deposited TiAlN selective absorber for high temperature CSP applications. RELIABILITY OF SOLAR MATERIALS AND SYSTEMS – 2015, May 2015, Aix-en-Provence, France. ⟨10.1063/1.4949058⟩. ⟨hal-01384517⟩

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