Communication Dans Un Congrès
Année : 2016
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01379701
Soumis le : mardi 11 octobre 2016-23:28:30
Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:28:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01379701 , version 1
Citer
Stefan Tinck, Erik Neyts, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Annemie Bogaerts. Effects of gas and surface temperatures during cryogenic etching of silicon with SF6/O2. 69th Gaseous Electronic Conference, Oct 2016, Bochum, France. ⟨hal-01379701⟩
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