Chemical Alkaline Etching of Silicon Mie Particles - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Advanced Optical Materials Année : 2015

Chemical Alkaline Etching of Silicon Mie Particles

Julien Proust
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1015012
F. Bedu
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
Stéphane Chenot
  • Fonction : Auteur
Institut des Nanosciences de Paris
I. Soumahoro
  • Fonction : Auteur
Institut des Nanosciences de Paris
Bruno Gallas
Institut des Nanosciences de Paris
Igor Ozerov
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV
Redha Abdeddaim
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 952324
CLARTE
Nicolas Bonod
CLARTE

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Optique / photonique

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https://hal.science/hal-01281242

Soumis le : mardi 1 mars 2016-18:59:29

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:06:03

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Dates et versions

hal-01281242 , version 1 (01-03-2016)

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Citer

Julien Proust, F. Bedu, Stéphane Chenot, I. Soumahoro, Bruno Gallas, et al.. Chemical Alkaline Etching of Silicon Mie Particles. Advanced Optical Materials, 2015, 3 (9), pp.1280-1286. ⟨10.1002/adom.201500146⟩. ⟨hal-01281242⟩

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