La d eposition plasma d'atomes sur une surface est utilis ee dans de nombreuses applications industrielles. Par exemple la d eposition d'atomes de platine sur un substrat poreux carbon e permet d'augmenter fortement la catalyse des r eactions en jeu dans les piles a hydrog ene. Les atomes sont projet es sur le substrat poreux a l'aide du plasma puis diffusent et de d eposent a l'int erieur du substrat. Il en r esulte, un d epôt atomique dans le substrat dont la densit e d ecroî t continument en fonction de la distance a la surface du substrat. Exp erimentalement, il a et e observ e que cette d ecroissance correspondait a un processus globale de "super"-diffusion anomale. La diffusion anomale peut-être mod elis ee de mani ere ph enom enologique par un equation de diffusion dont le coe fficient de diffusion d epend de la profondeur z a laquelle on se trouve. Si elle permet de bien retrouver les courbes exp erimentales , cette mod elisation ne permet pas de comprendre a priori les origines de la diffusion anomale. Nous proposons pour cela d' etudier un mod ele de diffusion dans un milieu poreux qui couplent de mani ere non-lin eaire la diffusion des atomes libres dans le poreux et celle des atomes absorb es par le substrat. Ces deux equations de diffusion sont coupl es par la loi d'absorption/d esorption des atomes par le substrat. Ce mod ele pr esente donc l'avantage de prendre en compte, même de mani ere simplif ee, les m ecanismes physiques microscopiques pertinents.