Characterization of cascade of multiple resonators developed on UV210 positive photoresist by DUV lithography - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Characterization of cascade of multiple resonators developed on UV210 positive photoresist by DUV lithography

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique Optique [physics.optics]

Hervé Lhermite  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01020848

Soumis le : mardi 8 juillet 2014-15:50:24

Dernière modification le : lundi 15 avril 2024-11:25:23

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01020848 , version 1 (08-07-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01020848 , version 1

Citer

Roberto Castro-Beltran, Nolwenn Huby, Hervé Lhermite, Goulc'Hen Loas, David Pluchon, et al.. Characterization of cascade of multiple resonators developed on UV210 positive photoresist by DUV lithography. Latin America Optics and Photonics Conference, Jul 2014, Cancun, Mexico. ⟨hal-01020848⟩

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