Alternated process for the deep etching of titanium - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Micromechanics and Microengineering Année : 2014

Alternated process for the deep etching of titanium

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Remi Dussart  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01015146

Soumis le : mercredi 25 juin 2014-21:48:13

Dernière modification le : mardi 4 juin 2024-11:28:03

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Dates et versions

hal-01015146 , version 1 (25-06-2014)

Identifiants

Citer

Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Remi Dussart. Alternated process for the deep etching of titanium. Journal of Micromechanics and Microengineering, 2014, 24, pp.075021. ⟨10.1088/0960-1317/24/7/075021⟩. ⟨hal-01015146⟩

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