Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
Remi Dussart : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01006364
Soumis le : dimanche 15 juin 2014-23:47:39
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:58
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-01006364 , version 1
Citer
Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Nicolas Gosset, Julien Ladroue, et al.. Plasma deep etching of silicon, titanium and gallium nitride for microtechnology. AVS 60th International Symposium & Exhibition, Oct 2013, United States. ⟨hal-01006364⟩
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