Scaling of high-kappa/metal-gate TriGate SOI nanowire transistors down to 10 nm width - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Solid-State Electronics Année : 2013

Scaling of high-kappa/metal-gate TriGate SOI nanowire transistors down to 10 nm width

P. Leroux
  • Fonction : Auteur
C. Vizioz
  • Fonction : Auteur
C. Comboroure
  • Fonction : Auteur
P. Perreau
  • Fonction : Auteur
E. Ernst
  • Fonction : Auteur
M. P. Samson
  • Fonction : Auteur
V. Maffini-Alvaro
  • Fonction : Auteur
F. Boeuf
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-01002171 , version 1 (05-06-2014)

Identifiants

Citer

R. Coquand, S. Barraud, M. Casse, P. Leroux, C. Vizioz, et al.. Scaling of high-kappa/metal-gate TriGate SOI nanowire transistors down to 10 nm width. Solid-State Electronics, 2013, 88, pp.32-36. ⟨10.1016/j.sse.2013.04.006⟩. ⟨hal-01002171⟩
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