Silicon films deposited by LPCVD for microsystems - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00954226 , version 1 (28-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00954226 , version 1

Citer

H. Mahfoz-Kotb, Anne-Claire Salaün, Tayeb Mohammed-Brahim, F. Bendriaa, France Le Bihan, et al.. Silicon films deposited by LPCVD for microsystems. Polyse 2002, Sep 2002, Nara, Japan. ⟨hal-00954226⟩
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