Impact of electron-beam lithography irregularities across millimeter-scale resonant grating filter performances - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Applied optics Année : 2010

Impact of electron-beam lithography irregularities across millimeter-scale resonant grating filter performances

Anne Talneau
Laboratoire de photonique et de nanostructures
Fabien Lemarchand
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 846494
RCMO
Anne-Laure Fehrembach
CLARTE
Anne Sentenac
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 836364
SEMO

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https://hal.science/hal-00945088

Soumis le : mardi 11 février 2014-16:11:04

Dernière modification le : jeudi 14 novembre 2024-10:25:42

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Dates et versions

hal-00945088 , version 1 (11-02-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00945088 , version 1

Citer

Anne Talneau, Fabien Lemarchand, Anne-Laure Fehrembach, Anne Sentenac. Impact of electron-beam lithography irregularities across millimeter-scale resonant grating filter performances. Applied optics, 2010, 49, pp.658. ⟨hal-00945088⟩

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