Communication Dans Un Congrès
Année : 2007
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00944971
Soumis le : mardi 11 février 2014-15:05:06
Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:48:29
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00944971 , version 1
Citer
N. Sadeghi, G. Cunge, R. Ramos. Impact of reactor walls chemical composition on radicals' densities in the chlorine based silicon etching ICP plasmas. 18th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC), Aug 2007, Kyoto, Japan. ⟨hal-00944971⟩
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