Communication Dans Un Congrès
Année : 2013
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00919179
Soumis le : lundi 16 décembre 2013-14:05:03
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:17:14
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00919179 , version 1
Citer
P. Brichon, E. Despiau-Pujo, G. Cunge, Maxime Darnon, O. Joubert. MD simulations of chlorine plasmas interaction with ultrathin silicon films for advanced etch processes. AVS 2013, Oct 2013, Long beach, United States. ⟨hal-00919179⟩
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