Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 1997
Pavel Bulkin : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00915369
Soumis le : samedi 7 décembre 2013-16:23:55
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:58
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00915369 , version 1
Citer
Pavel Bulkin, N. Bertrand, Bernard Drévillon, J.-C. Rostaing, Franck Delmotte, et al.. Plasma enhanced chemical vapour deposition of silica thin films in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor. Thin Solid Films, 1997, pp.63-67. ⟨hal-00915369⟩
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