Plasma enhanced chemical vapour deposition of silica thin films in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 1997
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00915369 , version 1 (07-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00915369 , version 1

Citer

Pavel Bulkin, N. Bertrand, Bernard Drévillon, J.-C. Rostaing, Franck Delmotte, et al.. Plasma enhanced chemical vapour deposition of silica thin films in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor. Thin Solid Films, 1997, pp.63-67. ⟨hal-00915369⟩
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