Deposition of silicon alloys in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor: oxide, nitride, oxinitrides and multilayers structures - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of Vacuum Science & Technology A Année : 2002

Deposition of silicon alloys in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor: oxide, nitride, oxinitrides and multilayers structures

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

Pavel Bulkin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00914166

Soumis le : mercredi 4 décembre 2013-23:28:01

Dernière modification le : jeudi 1 août 2024-13:48:05

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Dates et versions

hal-00914166 , version 1 (04-12-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00914166 , version 1

Citer

Pavel Bulkin, A. Hofrichter, T. Heitz, J. Huc, Bernard Drévillon, et al.. Deposition of silicon alloys in an integrated distributed electron cyclotron resonance reactor: oxide, nitride, oxinitrides and multilayers structures. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2002, pp.338. ⟨hal-00914166⟩

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