Article Dans Une Revue
Ceramics International
Année : 2014
Collection IEMN : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00903762
Soumis le : mercredi 13 novembre 2013-08:41:33
Dernière modification le : vendredi 26 avril 2024-03:30:33
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00903762 , version 1
- DOI : 10.1016/j.ceramint.2013.07.005
Citer
T. Li, G.S. Wang, K. Li, G. Du, Y. Chen, et al.. Electrical properties of lead-free KNN films on SRO/STO by RF magnetron sputtering. Ceramics International, 2014, 40, pp.1195-1198. ⟨10.1016/j.ceramint.2013.07.005⟩. ⟨hal-00903762⟩
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