Optical high frequency test structure and test bench definition for on wafer silicon integrated noise source characterization up to 110 GHz based on germanium-on-silicon photodiode - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Optical high frequency test structure and test bench definition for on wafer silicon integrated noise source characterization up to 110 GHz based on germanium-on-silicon photodiode

S. Oeuvrard
  • Fonction : Auteur
Guillaume Ducournau
L. Virot
J.M. Fedeli
  • Fonction : Auteur
J.M. Hartmann
  • Fonction : Auteur
Francois Danneville
Y. Morandini
  • Fonction : Auteur
D. Gloria
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00877721 , version 1 (29-10-2013)

Identifiants

Citer

S. Oeuvrard, Jean-Francois Lampin, Guillaume Ducournau, L. Virot, J.M. Fedeli, et al.. Optical high frequency test structure and test bench definition for on wafer silicon integrated noise source characterization up to 110 GHz based on germanium-on-silicon photodiode. 26th IEEE International Conference on Microelectronic Test Structures, ICMTS 2013, 2013, Osaka, Japan. pp.73-76, ⟨10.1109/ICMTS.2013.6528148⟩. ⟨hal-00877721⟩
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