Low-temperature crystallization of high performance Pb0.4Sr 0.6TiO3 films compatible with the current silicon-based microelectronic technology
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Sciences de l'ingénieur [physics]Origine | Fichiers éditeurs autorisés sur une archive ouverte |
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Soumis le : vendredi 27 mai 2022-14:39:16
Dernière modification le : vendredi 26 avril 2024-03:29:26
Archivage à long terme le : lundi 3 octobre 2022-15:05:25