Low temperature deposition of high performance lead strontium titanate thin films by in situ RF magnetron sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of the American Ceramic Society Année : 2013

Low temperature deposition of high performance lead strontium titanate thin films by in situ RF magnetron sputtering

K. Li
  • Fonction : Auteur
X.L. Dong
  • Fonction : Auteur
X.Y. Lei
  • Fonction : Auteur
T. Li
  • Fonction : Auteur
G. Du
  • Fonction : Auteur
G.S. Wang
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-00877654 , version 1 (29-10-2013)

Identifiants

Citer

K. Li, X.L. Dong, Denis Remiens, X.Y. Lei, T. Li, et al.. Low temperature deposition of high performance lead strontium titanate thin films by in situ RF magnetron sputtering. Journal of the American Ceramic Society, 2013, 96, pp.1682-1684. ⟨10.1111/jace.12198⟩. ⟨hal-00877654⟩
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