Low temperature deposition of high performance lead strontium titanate thin films by in situ RF magnetron sputtering - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Journal of the American Ceramic Society Année : 2013

Low temperature deposition of high performance lead strontium titanate thin films by in situ RF magnetron sputtering

K. Li
  • Fonction : Auteur
X.L. Dong
  • Fonction : Auteur
Denis Remiens
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
X.Y. Lei
  • Fonction : Auteur
T. Li
  • Fonction : Auteur
G. Du
  • Fonction : Auteur
G.S. Wang
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00877654

Soumis le : mardi 29 octobre 2013-09:24:10

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

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Dates et versions

hal-00877654 , version 1 (29-10-2013)

Identifiants

Citer

K. Li, X.L. Dong, Denis Remiens, X.Y. Lei, T. Li, et al.. Low temperature deposition of high performance lead strontium titanate thin films by in situ RF magnetron sputtering. Journal of the American Ceramic Society, 2013, 96, pp.1682-1684. ⟨10.1111/jace.12198⟩. ⟨hal-00877654⟩

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