Phase transformation in SiOx/SiO2 multilayers for optielectronics and microelectronics applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Ultramicroscopy Année : 2013

Phase transformation in SiOx/SiO2 multilayers for optielectronics and microelectronics applications

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hal-00861764 , version 1 (26-06-2018)

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Citer

Manuel Roussel, Etienne Talbot, R.P. Nalini, Fabrice Gourbilleau, Philippe Pareige. Phase transformation in SiOx/SiO2 multilayers for optielectronics and microelectronics applications. Ultramicroscopy, 2013, 132, pp.290. ⟨10.1016/j.ultramic.2012.10.013⟩. ⟨hal-00861764⟩
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