PS-b-PDMS graphoepitaxy in trilayer 193 nm photolithography patterns and transfer etching - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

PS-b-PDMS graphoepitaxy in trilayer 193 nm photolithography patterns and transfer etching

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00860961

Soumis le : mercredi 11 septembre 2013-15:14:58

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-10:04:01

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00860961 , version 1 (11-09-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00860961 , version 1

Citer

S. Archambault, M. Salaun, M. Delalande, G. Cunge, E. Pargon, et al.. PS-b-PDMS graphoepitaxy in trilayer 193 nm photolithography patterns and transfer etching. Directed self-assembly workshop at EuroNano Forum - ENF 2013, Jun 2013, Dublin, Ireland. ⟨hal-00860961⟩

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