Atomic layer deposition of TiN/Al2O3/TiN nanolaminates for capacitor applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ECS Transactions Année : 2012

Atomic layer deposition of TiN/Al2O3/TiN nanolaminates for capacitor applications

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00843720 , version 1 (12-07-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00843720 , version 1

Citer

L. Assaud, M. Hanbücken, L. Santinacci. Atomic layer deposition of TiN/Al2O3/TiN nanolaminates for capacitor applications. ECS Transactions, 2012, 50 (13), pp.151-157. ⟨hal-00843720⟩
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