Chapitre D'ouvrage
Année : 2009
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https://hal.science/hal-00820603
Soumis le : lundi 6 mai 2013-11:14:18
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00820603 , version 1
Citer
B. Mutel, P. Supiot. Thermochemical behaviour of organosilicon films deposited by a cold plasma polymerisation process. Mittal K.L. Polyimides and other high temperature polymers synthesis, characterization and applications, CRC Press, pp.391-407, 2009, ISBN 978-90-04-17080-3, e-ISBN 978-90-474-2411-6. ⟨hal-00820603⟩
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