Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers

C. Simao
  • Fonction : Auteur
N. Kehagias
  • Fonction : Auteur
D. Borah
  • Fonction : Auteur
B. Kosmala
  • Fonction : Auteur
M. A. Morris
  • Fonction : Auteur
C. M. Sotomayor Torres
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00809073 , version 1 (08-04-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00809073 , version 1

Citer

C. Simao, N. Kehagias, D. Borah, B. Kosmala, M. Salaun, et al.. Sub-20 nm nanofabrication via solvent-vapors nanoimprint directed selfassembly of block copolymers. Micro- and Nano-Engineering conference- MNE 2012, Sep 2012, Toulouse, France. ⟨hal-00809073⟩
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