Self-assembly patterning using block copolymer for advanced CMOS technology: optimisation of plasma etching process
T. Chevolleau
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
M. Delalande
(1)
,
X. Chevalier
,
R. Tiron
(2)
,
S. David
(1)
,
Maxime Darnon
(1)
,
C. Navarro
X. Chevalier
- Fonction : Auteur
S. David
- Fonction : Auteur
- PersonId : 742757
- IdHAL : sylvain-david-in2p3
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
C. Navarro
- Fonction : Auteur