Communication Dans Un Congrès
Année : 2012
Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00808857
Soumis le : dimanche 7 avril 2013-20:24:10
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:20:37
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00808857 , version 1
Citer
T. Chevolleau, G. Cunge, X. Chevalier, R. Tiron, Maxime Darnon, et al.. Self assembly patterning using block copolymer for advanced CMOS technology. Plasma Etch and Strip in Microelectronics conference, 2012, Grenoble, France. ⟨hal-00808857⟩
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