Plasma treatments to improve Linewidth roughness during gate patterning - Archive ouverte HAL
Article Dans Une Revue Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering Année : 2012

Plasma treatments to improve Linewidth roughness during gate patterning

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00808681

Soumis le : vendredi 5 avril 2013-20:42:19

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:23:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00808681 , version 1 (05-04-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00808681 , version 1

Citer

L. Azarnouche, E. Pargon, K. Menguelti, M. Fouchier, M. Brihoum, et al.. Plasma treatments to improve Linewidth roughness during gate patterning. Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2012, Vol. 8328, 83280H, 11pp. ⟨hal-00808681⟩

Exporter

BibTeX XML-TEI Dublin Core DC Terms EndNote DataCite

Collections

CEA UGA CNRS FMNT LTM PLASMA_ETCHING
44 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More