Plasma treatments to improve Linewidth roughness during gate patterning - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering Année : 2012
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00808681 , version 1 (05-04-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00808681 , version 1

Citer

L. Azarnouche, E. Pargon, K. Menguelti, M. Fouchier, M. Brihoum, et al.. Plasma treatments to improve Linewidth roughness during gate patterning. Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2012, Vol. 8328, 83280H, 11pp. ⟨hal-00808681⟩
36 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More