Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science & Technology A
Année : 2012
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https://hal.science/hal-00808668
Soumis le : vendredi 5 avril 2013-19:56:51
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:39
Citer
S. Banna, A. Agarwal, T. Lill, G. Cunge, Maxime Darnon, et al.. Critical Review: Pulsed High-Density Plasmas for Advanced Dry Etching Processes. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2012, pp.30, 040801. ⟨10.1116/1.4716176⟩. ⟨hal-00808668⟩
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