Characterization of nano-crystalline diamond films grown by continuous DC bias during plasma enhanced chemical vapor deposition - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Characterization of nano-crystalline diamond films grown by continuous DC bias during plasma enhanced chemical vapor deposition

V. Mortet
  • Fonction : Auteur
L. Zhang
M. Eckert
  • Fonction : Auteur
A. Soltani
J. d'Haen
  • Fonction : Auteur
O. Douheret
  • Fonction : Auteur
M. Moreau
  • Fonction : Auteur
S. Osswald
  • Fonction : Auteur
E. Neyts
  • Fonction : Auteur
David Troadec
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
P. Wagner
  • Fonction : Auteur
A. Bogaerts
  • Fonction : Auteur
G. van Tendeloo
  • Fonction : Auteur
K. Haenen
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00800940

Soumis le : jeudi 14 mars 2013-16:49:06

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00800940 , version 1 (14-03-2013)

Identifiants

Citer

V. Mortet, L. Zhang, M. Eckert, A. Soltani, J. d'Haen, et al.. Characterization of nano-crystalline diamond films grown by continuous DC bias during plasma enhanced chemical vapor deposition. Materials Research Society Fall Meeting, MRS Fall 2009, Symposium J : Diamond electronics and bioelectronics - Fundamentals to applications III, 2009, Boston, MA, United States. pp.1203-J05-03, 41-46, ⟨10.1557/PROC-1203-J05-03⟩. ⟨hal-00800940⟩

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