Comparative study of erbium disilicide thin films grown in situ under ultrahigh vacuum or ex situ with a capping layer - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2012

Comparative study of erbium disilicide thin films grown in situ under ultrahigh vacuum or ex situ with a capping layer

N. Reckinger
  • Fonction : Auteur
C.A. Dutu
  • Fonction : Auteur
Xing Tang
  • Fonction : Auteur
Dmitri Yarekha
S. Godey
L. Nougaret
  • Fonction : Auteur
A. Laszcz
  • Fonction : Auteur
J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
J.P. Raskin
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-00787381 , version 1 (12-02-2013)

Identifiants

Citer

N. Reckinger, C.A. Dutu, Xing Tang, Emmanuel Dubois, Dmitri Yarekha, et al.. Comparative study of erbium disilicide thin films grown in situ under ultrahigh vacuum or ex situ with a capping layer. Thin Solid Films, 2012, 520, pp.4501-4505. ⟨10.1016/j.tsf.2012.02.076⟩. ⟨hal-00787381⟩
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