Article Dans Une Revue
Journal of Vacuum Science and Technology
Année : 2013
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https://hal.science/hal-00944924
Soumis le : mardi 11 février 2014-14:22:07
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:01:23
Citer
C. Petit-Etienne, Maxime Darnon, P. Bodart, M. Fouchier, G. Cunge, et al.. Atomic-scale silicon etching control using pulsed Cl-2 plasma. Journal of Vacuum Science and Technology, 2013, 31 (1), pp.011201. ⟨10.1116/1.4768717⟩. ⟨hal-00944924⟩
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