Cw Argon Laser Crystallization of Silicon Films : Structural properties - Archive ouverte HAL
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Cw Argon Laser Crystallization of Silicon Films : Structural properties

Katell Kervella  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00776201

Soumis le : mardi 15 janvier 2013-11:22:15

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:56

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00776201 , version 1 (15-01-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00776201 , version 1

Citer

J.F. Michaud, Regis Rogel, Tayeb Mohammed-Brahim, Michel Sarret. Cw Argon Laser Crystallization of Silicon Films : Structural properties. Int. Conf. Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors (ICANS'21), Sep 2005, Lisbonne, Portugal. ⟨hal-00776201⟩

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