Materials and processes for non-volatile resistive memories

C. Vallee; P. Gonon; C. Mannequin; E. Gourvest; L. Dussault; H. Grampeix; V. Jousseaume; P. Michallon; S. Maitrejean

Communication Dans Un Congrès Année : 2012

Materials and processes for non-volatile resistive memories

(1) , (1) , (1) , (2) , (1) , , (3) , (3) ,

1
2
3

C. Vallee

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

P. Gonon

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

C. Mannequin

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

E. Gourvest

Fonction : Auteur

STMicroelectronics [Crolles]

L. Dussault

Fonction : Auteur

Laboratoire des technologies de la microélectronique

H. Grampeix

Fonction : Auteur

V. Jousseaume

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

P. Michallon

Fonction : Auteur

Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

S. Maitrejean

Fonction : Auteur

Marielle Clot : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00669444

Soumis le : lundi 13 février 2012-11:44:27

Dernière modification le : mardi 3 septembre 2024-11:16:05

Dates et versions

hal-00669444 , version 1 (13-02-2012)

Identifiants

HAL Id : hal-00669444 , version 1

Citer

C. Vallee, P. Gonon, C. Mannequin, E. Gourvest, L. Dussault, et al.. Materials and processes for non-volatile resistive memories. MAM 2012, Mar 2012, Grenoble, France. ⟨hal-00669444⟩

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