Impact of Synchronized Plasma Pulsing Technologies on Key Parameters Governing STI Etch Processes
M. Haass
(1)
,
Maxime Darnon
(1)
,
G. Cunge
(1)
,
P. Bodart
(1)
,
C. Petit-Etienne
(1)
,
M. Brihoum
(1)
,
L. Vallier
(1)
,
S. Banna
,
O. Joubert
(1)
Maxime Darnon
- Fonction : Auteur
- PersonId : 17906
- IdHAL : maxime-darnon
- ORCID : 0000-0002-6188-7157
- IdRef : 124051758
C. Petit-Etienne
- Fonction : Auteur
- PersonId : 745766
- IdHAL : camille-petit-etienne
S. Banna
- Fonction : Auteur