Regrowth of oxide-embedded amorphous silicon studied with molecular dynamics

E. Lampin; Christophe Krzeminski

doi:10.1063/1.3596815

Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2011

Regrowth of oxide-embedded amorphous silicon studied with molecular dynamics

(1) ,

1

E. Lampin

Fonction : Auteur

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

Christophe Krzeminski

Fonction : Auteur
PersonId : 192
IdHAL : christophe-krzeminski
ORCID : 0009-0006-1516-7649
IdRef : 060156406

CV

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics]

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Lampin_2011_1.3596815.pdf (3.78 Mo)

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https://hal.science/hal-00603127

Soumis le : mercredi 25 mai 2022-12:54:06

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Dates et versions

hal-00603127 , version 1 (25-05-2022)

Identifiants

HAL Id : hal-00603127 , version 1
DOI : 10.1063/1.3596815

Citer

E. Lampin, Christophe Krzeminski. Regrowth of oxide-embedded amorphous silicon studied with molecular dynamics. Journal of Applied Physics, 2011, 109, pp.123509-1-5. ⟨10.1063/1.3596815⟩. ⟨hal-00603127⟩

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