Metallic source/drain architecture for advanced MOS technology : an overview of METAMOS results - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2009

Metallic source/drain architecture for advanced MOS technology : an overview of METAMOS results

G. Larrieu
  • Fonction : Auteur
N. Breil
  • Fonction : Auteur
R. Valentin
  • Fonction : Auteur
Francois Danneville
Dmitri Yarekha
N. Reckinger
  • Fonction : Auteur
Xing Tang
  • Fonction : Auteur
A. Halimaoui
  • Fonction : Auteur
R. Rengel
  • Fonction : Auteur
E. Pascual
  • Fonction : Auteur
A. Pouydebasque
  • Fonction : Auteur
X. Wallart
S. Godey
J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
A. Laszcz
  • Fonction : Auteur
J. Katcki
  • Fonction : Auteur
J.P. Raskin
  • Fonction : Auteur
Gilles Dambrine
A. Cros
  • Fonction : Auteur
T. Skotnicki
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00575696 , version 1 (11-03-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00575696 , version 1

Citer

Emmanuel Dubois, G. Larrieu, N. Breil, R. Valentin, Francois Danneville, et al.. Metallic source/drain architecture for advanced MOS technology : an overview of METAMOS results. 8th Symposium Diagnostics & Yield : Advanced Silicon Devices and Technologies for ULSI Era, 2009, Warsaw, Poland. ⟨hal-00575696⟩
27 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More